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半導體生產用純水設備的特點
來源: | 發布日期:2023-06-30

    半導體生產用純水設備是半導體行業制造商的關鍵設備之一,生產半導體原料需要使用純水進行清洗和制備,在半導體產業鏈中起著至關重要的作用。本文將從純水設備工作原理、特點以及應用等方面進行闡述,希望能夠幫助讀者更好地了解這一領域的知識。


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    半導體生產用純水設備工作原理與反滲透設備的工作原理是相通的。都需要使用到滲透膜,其工作原理是對水施加一定的壓力,使水分子和離子態的礦物質元素通過反滲透膜,而溶解在水中的絕大部分無機鹽(包括重金屬)、有機物以及細菌、病毒等無法透過反滲透膜,從而使滲透過的純凈水和無法滲透過的濃縮水嚴格的分開;反滲透膜上的孔徑只有0.0001微米,而病毒的直徑一般有0.02-0.4微米,普通細菌的直徑有0.4-1微米。


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    半導體生產用純水設備特點和應用。純水設備具有以下幾個顯著的特點。一是,其生產的水具有高度的純凈度。比如,對于半導體石英水處理過程,其純凈度需要達到18MΩ.cm以上。二是,純水設備生產的水不僅純凈度高,而且還具有高水質穩定性。三是,純水設備為連續生產提供了保障,非常適合于半導體、光學、食品、制藥等工業領域。而半導體行業是純水設備主要的應用領域之一。半導體芯片生產需要高純度、極大活性的水進行清洗,其中純水設備扮演著關鍵角色。除此之外,還有鋼鐵、化工、制藥等行業也需要使用超純水設備。例如,在鋼鐵工業中,高純度水被用作煉鋼和冶金生產中的冷卻劑,以及要求高純度水的電山機組制造等領域。

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